Press release

Transmissionselektronenmikroskopie

Ru-Si Multilayer auf dem einkristallinen Si (atomare Auflösung)

Termin: 31.10.2013 ab 9:30 Uhr

Kursbeschreibung (pdf)

Anmeldebogen (pdf)

Anmeldungen bitte bis 18.10.2013 über:

Julia Hettesheimer
Institut für Oberflächen- und Schichtanalyse GmbH, Kaiserslautern
(Institute for Surface and Thin Film Analysis) IFOS
hettesheimer[at]ifos.uni-kl.de, Fax: 0631-20573-3003

Die Teilnahme ist kostenlos. Wir freuen uns auf rege Teilnahme.

Ru-Si Multilayer auf dem einkristallinen Si (atomare Auflösung)